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            行業資訊

            硬鉻電鍍工藝操作條件

            文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2016/6/28     瀏覽次數:    


              操作條件

            鍍液組成及工藝條件
            標準開缸
            適用范圍
            鉻酐
            240克/升
            225-275克/升
            純硫酸
            2.7克/升
            2.5-4.0克/升
            RC-25K開缸劑
            20毫升/升
            10-30毫升/升
            陰極電流密度
            60安培/平方分米
            30-75安培/平方分米
            陽極電流密度
            30安培/平方分米
            15-35安培/平方分米
            工作溫度
            58℃
            50-60℃

              設備要求

              鍍槽:硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可,槽邊應有抽風設備;

              整流器:要有足夠的容量與鍍槽配套,波紋系數小于5%,電壓不小于15V;

              陽極:使用的陽極為鉛錫合金(錫:7%)或鉛銻合金,輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;

              加熱器:選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;

              冷卻管:選用鈦或鉛材料;

              過濾泵:過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。


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